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[신화망 뉴욕 4월 13일] (왕나이수이(王乃水) 상양(商洋) 황지후이(黃繼滙) 기자) 중미 지적 재산권 대화 및 중국 브랜드 수출 포럼이 11일 뉴욕에서 개최되었다. 회의에 참가한 전문가들은 다음과 같이 밝혔다. 최근 몇 년간 중국은 지적 재산권 보호 방면에서 큰 노력을 했고 또한 적극적인 진전을 이뤘다. 미국 측의 일부 인사들은 중미의 발전 단계가 다르다고 해서 중국의 지적 재산권 보호 방면에서의 노력과 진보를 무시해서는 안된다.
중국 상무부 장샹천(張向晨) 국제 무역 협상 부대표는 당일 미국의 중국 상공 회의소에서 개최한 이번 포럼에서 다음과 같이 말했다. “나는 예전에 상무부 지적 재산권 보호 분야에서 일을 했었기에 지적 재산권이 중미 경제 무역 협력에서의 중요성을 잘 알고 있다.” 그는 다음과 같이 말했다.
중미는 지적 재산권 보호 방면에서 처한 단계가 다르다. 미국의 지적 재산권 보호 시스템은 이미 비교적 성숙되었을 뿐만 아니라 지적 재산권 보호와 혁신 장려 면에서 좋은 균형을 유지하고 있지만 중국은 여전히 학습 단계에 있다. 미국은 지적 재산권 보호 면에서 풍부한 경험을 갖고 있고 중국은 어떻게 지적 재산권 보호를 강화할 것인가에서 미국 측과 긴밀한 협력을 기대하고 있다.
장치웨(章啟月) 뉴욕 중국 총영사는 다음과 같이 밝혔다. 지적 재산권 보호는 중미 경제 무역 관계의 중점 중 하나이다. 양국은 광범위한 공동한 이익을 가지고 있고 쌍방은 응당 협력으로 윈-윈을 추구해야 한다.
원문 출처:신화사
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